机译:包含紫外线反应性氟表面活性剂的纳米压印材料,可减少光刻加工中的缺陷
机译:氟化硅基抗蚀剂材料和光反应性底层的研究,用于逐步减少和重复进行紫外线纳米压印光刻
机译:氟化硅基抗蚀剂材料和光反应性底层的研究,用于逐步减少和重复进行紫外线纳米压印光刻
机译:紫外固化纳米压印光刻中硬掩模层上生物质衍生的植物基抗蚀剂材料的开发
机译:制备高性能Cd1-xZnxTe / CdS太阳能电池缺陷减少策略的分子动力学研究
机译:碳基材料的等离子氟化用于压印和成型平版印刷应用
机译:含有紫外反应性氟表面活性剂的纳米压印抗蚀材料,用于平版印刷中的缺陷减少
机译:极紫外光刻掩模上基板和吸收体缺陷的可印刷性